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离子束增强沉积
离子束增强沉积（IonBeamAssistedDeposition，IBAD）是一种在单晶硅衬底上制备功能薄膜的先进技术。离子束能够加速反应速率，同时降低反应温度，使得制备过程具有更高的选择性。本文将...
2024-03-28 16:08:15371 -
离子增强刻蚀
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-28 01:50:24320 -
离子注入优缺点是什么
纳瑞科技的服务将为IC芯片设计工程师、IC制造工程师缩短设计、制造时间，增加产品成品率。我们将为研究人员提供截面分析，二次电子像，以及透射电镜样品制备。我们同时还为聚焦离子束系统的应用客户提供维修、系...
2024-03-25 04:12:14362 -
离子束增强沉积优缺点
纳瑞科技（北京）有限公司(IonBeamTechnologyCo.,Ltd.)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。离子束增强沉积（ionbe...
2024-03-22 15:48:22268 -
芯片修调
纳瑞科技（北京）有限公司(IonBeamTechnologyCo.,Ltd.)成立于2006年，是由在聚焦离子束（扫描离子显微镜）应用技术领域有着多年经验的技术骨干创立而成。芯片修调是一种将芯片恢复功...
2024-03-21 20:32:152604
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2024-03-15 19:26:06 -
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